在上月的itf大会上，半导体行业大脑imec（比利时微电子研究中心）公布的蓝图显示，2025年后晶体管进入埃米尺度（Å，angstrom，1埃 = 0.1纳米），其中2025对应a14（14Å=1.4纳米），2027年为a10（10Å=1nm）、2029年为a7（7Å＝0.7纳米）。
当时imec就表示，除了新晶体管结构、2d材料，还有很关键的一环就是high na（高数值孔径）euv光刻机。其透露，0.55na的下代euv光刻机一号试做机（exe:5000）会在2023年由asml提供给imec，2026年量产。
不过，本月与媒体交流时，asml似乎暗示这个进度要提前。第一台高na euv光刻机2023年开放早期访问，2024年到2025年开放给客户进行研发并从2025年开始量产。
据悉，相较于当前0.33na的euv光刻机，0.55na有了革命性进步，它能允许蚀刻更高分辨率的图案。
分析师alan priestley称，0.55na光刻机一台的价格会高达3亿美元（约合19亿），是当前0.33na的两倍。
早在今年7月，intel就表态致力于成为高na光刻机的首个客户，intel营销副总裁maurits tichelman重申了这一说法，并将高na euv光刻机视为一次重大技术突破。
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